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单选题 ( )是指按照一定的方式将杂质掺入到半导体等材科中,改变材料电学性质,达到形成半导体器件的目的
学科：集成电路制造工艺
时间：2023-12-19 01:29:26
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掺杂结束后要对硅片进行质星检测,造成硅片表面有颗粒污染的原因可能是( )A. 离子束中混入电子B. 注入机未清洗干净C. 注入过程中晶圆的倾斜角度不合适D. 离子束电流检测不够精确
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题目3单选题
( )的目的是把注入的杂质原子电离成离子,形成注入离子束,并输出具有一定动能的正离子束A. 离子源B. 磁分析器C. 加速管D. 靶室
题目4单选题
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题目7多选题
退火的目的是( )A. 激活杂质B. 修复晶格损伤C. 抑制沟道效应D. 抑制离子碰撞
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题目9多选题
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