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单选题 离子注入过程是一个非平衡过程,高能离子进入靶后,不断与原子核及其核外电子碰撞,逐步损失能量,最后停下来.停下来的位置是随机的,大部分不在晶格上,因而没有什么
A. 电活性
B. 晶格损伤
C. 横向效应
D. 沟道效应
学科:半导体制造工艺与技术(含专业英语)
时间:2025-11-16 13:08:33
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